致茂電子（Chroma ATE Inc.）於3月19日舉辦第三屆「致茂論文獎」頒獎典禮，活動圓滿落幕。本屆論文獎持續深化產學合作，並與國立臺灣科技大學合作推動，透過建立與產業需求緊密連結的交流平台，促進學術研究與實務應用接軌，進一步推動科技創新與關鍵人才培育。

隨著新世代高效能運算與AI應用快速發展，從AI晶片、高效能運算（HPC）到資料中心（Data Center），對測試與量測技術的需求持續提升。面對技術快速迭代，測試與驗證已成為支撐系統效能與可靠度的關鍵環節。致茂長期深耕量測與測試領域，已建立完整的AI相關測試能量，涵蓋AI關鍵基礎架構四大核心面向，包括運算與資料處理、散熱與熱管理、高速通訊與資料傳輸，以及電源與能源管理。透過對應的測試與驗證解決方案，致茂可全面確保AI系統在效能、穩定性與可靠度上的表現，於AI產業鏈中扮演關鍵支撐角色。

▲致茂電子 執行長 曾一士 開場致詞

▲國立臺灣科技大學 校長 顏家鈺 致詞

▲第三屆致茂論文獎評審委員總召集人、國立臺北科技大學 講座教授 賴炎生 致詞

本屆論文獎依據致茂核心技術發展方向，分為「電力電子相關技術」與「半導體測試相關技術」兩大類別，各設特優獎（新台幣20萬元）、優等獎（新台幣10萬元）及佳作獎（新台幣2萬元），總獎金近新台幣150萬元。共有101篇論文投稿，歷經初審、複審及決審等嚴謹評選程序，最終遴選出具備技術創新性與產業應用潛力之優秀研究成果。

▲決賽學生與 致茂文教基金會 董事長 應正 合影

在「電力電子相關技術」類別中，特優獎由國立臺北科技大學團隊獲得，其研究主題為「應用於AI伺服器之高功率密度電源模組研製」，由劉宇晨副教授指導，學生李宇峻完成，呼應AI資料中心對高效率與高功率密度電源系統的關鍵需求。

▲致茂電子 董事長 黃欽明(左) 與特優獎學生合影

在「半導體測試相關技術」類別中，特優獎由國立臺灣大學團隊獲得，其研究主題為「一種新穎的全晶片後脈衝評估技術應用於116 × 160 Ge-on-Si單光子雪崩二極體陣列晶片」，由吳肇欣教授指導，學生蔡佳蓁、張仁泓共同完成，展現先進感測與半導體測試技術的創新成果。

▲致茂電子 董事長 黃欽明(左) 與特優獎學生合影

頒獎典禮後，致茂亦安排企業參訪活動，邀請決賽團隊走進研發實驗室與測試場域，實地觀摩研究成果如何轉化為實際系統與產業應用，進一步強化產學之間的實質連結。

▲企業參訪

在AI時代的快速演進下，量測與測試不僅是品質的守門員，更是驅動創新的關鍵引擎。未來將持續透過「致茂論文獎」及各項產學合作計畫，深化與全球學術界的連結，打造開放且具影響力的創新平台，攜手推動關鍵技術發展，為產業注入持續創新的動能。

完整得獎名單請參閱致茂論文獎官方網站。

▲第三屆致茂論文獎頒獎典禮暨晚宴現場合影

▲致茂電子 董事長 黃欽明 致詞

▲致茂文教基金會 董事長 應正 致詞