致茂電子（Chroma ATE Inc.）很榮幸參與於第一屆 IEEE AI4IM（IEEE Symposium on Artificial Intelligence for Instrumentation and Measurement）於義大利阿瑪菲（Amalfi, Italy）舉辦的國際專題研討會，並於會中發表：「Advanced Validation Technologies for AI Infrastructure」主題。

AI4IM 提供寶貴的國際學術交流平台，並邀請產業界分享實務AI應用，讓學術理論與產業實踐能有效連結。於AI基礎設施驗證領域量測技術與實務經驗，Chroma ATE介紹四層蛋糕應用層，涵蓋 Compute（算力）、Thermal（散熱）、Network（網通）與 Power（電力）等關鍵面向，探討如何透過精密電子與光學量測技術協助全球一級客戶打造更可靠且高效的 AI 運算資料中心基礎設施。

「只有持續創新並與客戶共同協作，才能贏得客戶的信賴」，致茂電子執行長辦公室特別助理張承濂補充。

本次大會中，致茂亦贊助並頒發 Best Paper Award by Chroma。

恭喜獲獎論文：
DAEE: Degeneracy-Aware Entailment Entropy as Uncertainty Quantification for LLM-Assisted Measurements.
獲獎團隊：汪凡（國立清華大學）、Shervin Shirmohammadi（加拿大渥太華大學）、許承鑫（國立清華大學）

也恭喜所有與會學者及發表論文學生共襄盛舉。Chroma ATE將持續投入AI基礎設施驗證、測試與量測技術創新，攜手產學界共同推動可信賴的 AI 發展。

▲致茂電子於 IEEE AI4IM 2026 發表「Advanced Validation Technologies for AI Infrastructure」。

▲恭喜國立清華大學汪凡同學榮獲 Best Paper Award by Chroma。
照片由左至右為指導教授 Shervin Shirmohammadi（AI4IM 大會共同主席、IMS學會主席）、汪凡，以及致茂電子總經理特助張承濂。