三維光學(3D)輪廓儀 Model 7503

三維光學(3D)輪廓儀
產品特色
  • 使用白光干涉量測技術,非破壞性、快速表面形貌量測與分析
  • 模組化設計可依量測需求及預算考慮進行各部件選配
  • 提供多種表面參數量測功能,如斷差高度、夾角、面積、體積、粗度、起伏、薄膜厚度及平整度
  • 具備暗點以及邊界錯誤問題修正演算法
  • 友善的人機介面,簡單的圖形化控制系統及3D圖型顯示
  • 可交換式的檔案格式,可儲存與讀取數種3D輪廓檔案格式
  • 提供腳本量測功能,具備自動量測能力

Chroma 7503三維光學輪廓儀乃利用掃描白光干涉技術所發展之次奈米三維光學輪廓量測儀,透過精密的掃描系統以及創新演算法進行微奈米結構物表面輪廓的量測與分析。

Chroma 7503新一代的系統模組化設計,具備高度彈性之組合配置,可針對不同之量測需求配置來符合不同之量測應用;可選擇單物鏡或搭載電動鼻輪,最多可同時掛載5種物鏡,使用時直接切換,省去手動更換的麻煩。可選擇搭配手動或電動調整移動平台,可對樣品作自動調平及定位。垂直與水準軸向掃描範圍大,適合各種自動量測之應用,樣品皆不需前處理即可進行非破壞、快速的表面形貌量測與分析,最適合使用於業界研發生產、制程改善以及學術研究等單位。

Chroma 7503搭配使用長行程之垂直軸量測掃描行程可達到60mm,選購高精密之電動移動平台則水準軸向亦可達次微米解析,除此Chroma 7503可透過電腦控制電動移動平台進行水準掃瞄,使其水準軸向量測範圍可依據客戶需求修改平台尺寸。Chroma 7503搭配快速的校正程式以及演算原理,系統校正結果可以追朔至NIST標準,並結合數種創新且強固可靠的演算法,因此本系列產品可同時擁有高精准度以及大範圍量測的特質。

Chroma 7503系統藉由垂直軸自動化移動平台的掃描功能搭配快速的自動對焦演算法,可有效輔助使用者找到最佳的對焦位置,在短短的幾秒鐘之內無需繁複的操作,系統即可自動將待測物體調整至最佳對焦位置。

目前商用白光干涉分析儀最常使用之質心算法來計算表面高度,因光線繞射的效應在某些位置產生錯誤高度計算,造成量測結果邊界輪廓出現錯誤的資訊,本系列產品採用最新開發3D Profiler Master量測軟體,並搭配Chroma干涉訊號處理演算法來分析白光干涉圖譜,可將邊界錯誤問題予以避免。

系統亦搭載Chroma的暗點處理功能,可有效過濾並修正無法產生干涉之問題資料點,將這些暗點去除後可降低量測上的誤差。由於暗點處理的機制在資料擷取期間執行,因此暗點濾除功能可有效率的執行,由於暗點乃參考其附件周圍資料來進行修正,因此可使得量測更加強固且可靠。

分析軟體針對表面輪廓資料分析、修正以及圖示提供完整的表面形貌呈現,更提供超過150種線或面的輪廓參數計算,其中包含粗度、起伏、平整度、頂點與谷點等參數資料,高通濾波、低通濾波、快速傅立葉轉換以及尖點移除空間濾波等工具提供使用者進行高/低/帶通訊號濾除,且軟體亦具備多項式擬合、區域成長、整面及多區域調平方法,可靈活運用於資料處理與分析上。

在眾多高科技產業中,諸如半導體、平面顯示器、光纖通訊、微機電(MEMS)、生物醫學與電子封裝等,由於微結構表面輪廓的準確性決定了產品的效能與功能,在其製程中皆需針對微結構的表面輪廓品質進行監測。有鑑於此,Chroma 7503提供多種表面參數量測功能,如斷差高度、夾角、面積、體積、粗度、起伏、薄膜厚度及平整度以滿足業界與研究單位之需求。

Chroma 7503選配電動鼻輪後可快速進行不同倍率切換及選配電動移動平台可進行大面積接圖功能,可應付產業界的各種應用需求。此外更加入彈性的模組化設計,可依用戶端實際的應用需求進行搭配,讓用戶可在價格與功能規格之間取得平衡,是您提升效率及節省成本的最佳選擇。

  應用範例


產品詢價

所有規格如有更改,恕不另行通知。
選擇
型號
敘述

三維光學輪廓儀

  • 干涉物鏡:2.5X, 5X, 10X, 20X, 50X, 100X
  • 鼻輪:
    • 手動旋轉鼻輪 (5孔)
    • 電動旋轉鼻輪 (5孔)
  • XY 移動平台:
    • 電動 300mm x 300mm;100mm x 100mm
    • 手動 70mm x 70mm